Moorfield Nanotechnology根据客户超大样品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面积高质量薄膜磁控溅射系统。该型号是nanoPVD-S10A的拓展型号,用于制备超大尺寸的样品,大样品可达8英寸。
该系统基于nanoPVD-S10A的成熟设计和性能,在相同腔体的设计基础上对nanoPVD-S10A进行了调整,使溅射源正对衬底。结合衬底旋转,即使在生长8英寸的超大样品时也可获得很高的样品均匀度。与nanoPVD-S10A一样,溅射源采用水冷式设计,可以持续高功率运行,可实现共溅射等功能。nanoPVD-S10-WA是一款接受半定制化的设备,如有特殊需求请联系我们进行详细讨论。
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主要特点:
◎ 可制备8英寸超大样品
◎ 水冷式2英寸标准溅射源
◎ MFC流量计高精度控制过程气体
◎ 直流/交流溅射电源可选
◎ 全自动触屏控制
◎ 可设定、存储多个生长程序
◎ 本底真空<5×10-7mbar
◎ 易于维护
◎ 全面安全性设计
◎ 兼容超净间
◎ 系统性能稳定
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选件:
◎ 机械泵类型可选
◎ 腔体快速充气
◎ 自动高分辨压力控制
◎ 增加过程气体
◎ 升级双溅射源
◎ DC/RF电源可选
◎ 溅射电源切换
◎ 共溅射方案
◎ 晶振膜厚测量系统
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